「ナノエレクトロニクス対応新規炭素クラスター創製」
    http://www.miyagi.jst-plaza.jp/kadai/H14_04/04.html

 

代表研究者  : 東北大学大学院 工学研究科 畠山力三
共同研究者  : 平田孝道(東北大)、都田昌之(山形大)、三村秀典(静岡大)、
研究スタッフ  : 藤本加代子
共同研究企業 : 株式会社イデアルスター
  研究概要
クラスター科学に独自の画期的プラズマ技術を導入することによって、プラズマ中の正イオンと負イオン間の
相互作用を促進させ、各々電子ドナー性と電子アクセプター性を発現する各種原子内包フラーレン(A@C60)
に代表される新規ナノクラスターを高収率で大量合成すると共に、新機能性ドーパントとしての実例を提示する。
  期待される効果

 各種原子内包フラーレンの大量合成実現と、広領域分野研究・開発機関へそれらサンプルを提供する結果としての多角的な基礎物性解明が、フラーレン類の実用化への突破口になることが期待できる。
 また、シリコンベース無機半導体において欠如している構造・機能・形態適応性に富む、有機・高分子半導体デバイス実用化の鍵となる新規ドーパントを国内外市場へ大量供給することを通して、ナノエレクトロニクス新産業の創出に貢献する。

■ 畠山プロジェクト研究室
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