2024.04.09

信越化学、国内で新拠点を設営 半導体露光材料で第四の生産拠点

当社は同市内に約１５万�uの事業用地を取得し、その用地に半導体露光材料の製造及び開発拠点を建設します。新工場の建設地については、複数の候補地を検討した結果、群馬県および同県伊勢崎市の斡旋も受け、この用地を選定しました。当社はこの新工場における投資を段階的に実施する計画で、第一期の投資は２０２６年までの完工を目指します。投資金額は第一期完工の段階で、事業用地の取得も含め約８３０億円を見込み、全て自己資金で賄います。

当社は1997年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）で当時の最先端のKrFフォトレジストの生産を開始。その後、フォトマスクブランクス、ArFレジスト、多層膜材料、EUVレジストなどの半導体露光材料を相次いで開発に成功し事業化してきました。2016年には同事業の第二の生産拠点を福井県に、2019年には第三の生産拠点を台湾雲林県に設け、製品の安定供給を果たしてきました。

半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けています。顧客からの強い要請に応えるため、事業継続の観点からもリスク分散を図ることが可能な第四の生産拠点の新設を決定しました。当社はこの地を半導体材料の先進拠点として位置付け、将来は研究開発を含む半導体露光材料ほかの拠点として拡大させていく構想です。

本件では群馬県と伊勢崎市から全面的なご協力いただきましたことに深く感謝いたします。信越化学は、今後とも顧客と社会の期待にお応えするため、新拠点と半導体露光材料事業の発展に注力してまいります。

信越化学工業は9日、半導体材料の新工場を群馬県伊勢崎市に造ると発表した。830億円を投じ2026年の完成をめざす。同社が新たな製造拠点を国内に新設するのは1970年以来だ。 　

新工場で生産するのは、半導体ウェハーに回路を描く「露光」のための材料。現在は台湾や新潟県、福井県で生産しており、半導体産業の国内集積が進む中、今回の新工場建設で生産体制の強化とリスクの分散を図る。およそ15万平方メートルの用地確保に向け造成が進んでいて、生産に加え開発の拠点も設置する。