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2026/2/1    欧州のエチレンカルテル事件 　　

気がつかなかったが、欧州で「エチレンカルテル事件」が進展している。多くの企業が損害賠償の訴訟をおこなっている。

価格カルテルは通常、メーカーが販売価格を吊り上げるものである。しかし、今回の事件は化学企業4社が数年間、逆のことをしていた。つまり、エチレンを購入するために共謀し、その価格を引き下げていたという。

欧州委員会が2020年に、エチレン購入者4社が価格カルテル（最も低い価格で原料を購入するために共謀した）を結んだとして総額2億6000万ユーロ（約320億円）の制裁金を科す決定を下した。 

問題はこれからである。2023年にShell が、2025年にエチレンメーカー5社が、購入カルテル参加の4社に対し、損害賠償の訴えを行った。6社の請求額合計は65億ドルを超える。

今回、Braskemが、昨年後半に4社に対し損害賠償の訴訟を行ったことが明らかになった。金額は8.12億ユーロである。

エチレン製造業者が今になって訴訟を起こしているのは、2023年10月18日に4社のうちの1社Clariantが2020年の欧州委員会の判決に対する控訴審で敗退したためである。

エチレンをカルテルメンバーに直接販売していない企業も、価格の下落による利益の減を主張して賠償を請求できるため、現在の請求額はさらに増加する。一部の被告企業が破産するリスクがあると業界専門家は指摘している。

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欧州委員会の判決は下記の通り。

　　2020/7/14　Antitrust: Commission fines ethylene purchasers € 260 million in cartel settlement

Orbia（旧称はMexichem）、Clariant、Celanese、Westlakeの4社は、エチレンの商業市場における購入に関してカルテルに関与していた。彼らはエチレンを可能な限り最安値で購入するために共謀していた。4社はすべて、カルテルへの関与を認め、事件の和解に同意した。（実際はClariantが控訴したが、失敗した。）

「このカルテルは、企業がエチレン購入のために支払う価格を操作することを目的としていた。エチレンはPVCなど、日常的に使用する製品に使われる材料を作るために使用される。このカルテルに関与した4社は、エチレン販売者との価格交渉戦略を調整し、エチレン購入の価格を不正に操作した。このような行為は、EU競争法において違法とされ、欧州委員会はカルテルを一切容認しない。

EU競争法は、販売価格の調整に関連するカルテルだけでなく、購入価格の調整に関するカルテルも禁止しており、これにより、競争のプロセスが保護される。」

エチレン購入者は通常、供給契約に基づいてエチレンを購入する。エチレンの購入価格は非常に変動しやすいため、価格の変動リスクを抑えるために、エチレン供給契約には価格算定式が含まれており、これには通常「月次契約価格（MCP）」と呼ばれる業界価格基準が含まれている。これは、エチレンの購入者と販売者との個別交渉の結果として決定される。

欧州委員会の調査によると、2011年12月から2017年3月まで、月次契約価格（MCP）を設定する過程で、エチレン購入４社がエチレン販売者に対する価格交渉戦略を調整し、MCPを有利に操作していたことが明らかになった。これらの企業は、米国のWestlake、メキシコのOrbia（旧称はMexichem）、スイスのClariant、米国のCelaneseで、これらの行為は、ベルギー、フランス、ドイツ、オランダの地域で行われていた。

ほとんどのカルテルとは異なり、企業が販売価格を引き上げるために共謀するのではなく、これら4社はエチレンの価格を引き下げるために共謀し、エチレン販売者に不利益を与えていた。特に、企業はエチレン販売者との月次契約価格（MCP）の交渉前および最中に、その価格を下げるために交渉戦略を調整した。また、価格関連の情報を交換していた。これらの行為は、EU競争法によって禁止されている。

欧州委員会は、Orbia、Clariant、Celaneseに対してEU競争法違反により合計2億6000万ユーロの罰金を科した。
Westlakeには、同社がカルテルを欧州委員会に告発したため、罰金は科されなかった。

罰金の内訳

企業名（グループ） Leniency program 和解による
         減額		 罰金 (€)
Westlake 100% 10% 0
Orbia 45% 10% 22,367,000
Clariant 30% 10% 155,769,000
Celanese 20% 10% 82,307,000
合計 　 　 260,443,000

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これまで判明していた損害賠償訴訟は下記の通り。

原告エチレンメーカー

請求額（億ドル）

 請求日
LyondellBasell 18.60 2025/7/16
OMV （オーストリア） 11.60 2025/5/16
Dow 8.94 2025/5/9
Total 7..29 2025/2/25
BASF 16.20 2025/1/9
Shell 10.00 2023/10/18
6社合計 65.34 　
Braskem ＊　9.66 2025後半
　　　　＊　１ユーロ＝1.19米ドルで換算
　
　

2026/2/10   1種類の触媒で4種類の有機反応を自在に切替

理化学研究所（理研）環境資源科学研究センターグリーンナノ触媒研究チームと九州大学カーボンニュートラル・エネルギー国際研究所（I2CNER）の共同研究グループは2月6日、1種類の触媒を用いて同じ反応基質と反応試薬との反応で4種類の全く異なる有機反応を選択的に実現する「四重スイッチング触媒反応系」の開発に成功したと発表した。
　

ハロゲン化アリールとホルムアミドを用いたsp3 C–Hアリール化、アミノメチル化、sp2 C–Hアリール化、および脱ヨウ素化を可能にする、四重項スイッチ型触媒が開発された。

このプロトコルの選択性はアミン誘導体によって制御され、

　① ギ酸アンモニウムはsp3 C–Hアリール化を、
　② トリエタノールアミンはアミノメチル化を、
　③ トリプロパノールアミンはsp2 C–Hアリール化を促進した。

さらに、温度が重要な役割を果たし、アミノメチル化は150℃（②-1）、脱ヨウ素化は110℃で（②-2）起こることがわかった。

すべての反応は、65 mol ppmという極めて低いPd担持量を持つ、再利用可能なシリコンナノワイヤアレイ担持Pd 触媒を用いて行われた。触媒反応を促進するためにはマイクロ波照射が不可欠であり、磁場成分は電場よりも効果的であることが証明された。

　

これは、さまざまな条件を全て検討したところ思いがけず見つけた偶然の発見で、有機合成プロセスの多機能化、創薬化学の大幅な効率化に新しい可能性を開くもの。

反応の切替えは、添加剤（アミン類：窒素を持つ化合物）や反応温度といったごく小さな条件変更のみで達成された。

触媒にはシリコンナノワイヤーアレイ（SiNA）にパラジウム（Pd）を固定化したSiNA-Pdを用い、触媒量はわずか65mol ppm（原料1molに対して65ppm、0.0065mol％）だったが、反応物の高い収率と触媒の再利用性を示し、金属残渣も医薬品基準を満たした。

 シリコンナノワイヤーアレイ（SiNA）は、シリコン表面の上に太さが数十～数百ナノメートル、高さ数マイクロメートルのシリコンワイヤーが多数のブラシのように生えた基板。

さらに本研究では、マイクロ波照射において磁場成分が触媒活性化に不可欠であること、変調励起赤外分光法（ME-IR）と位相敏感検出法により、マイクロ波の磁場成分が触媒のシリコンナノワイヤー構造を動的に活性化していることを確認した。これはマイクロ波化学の原理解明という点でも大きな前進である。

本研究は、科学雑誌『ACS Catalysis』オンライン版（2月5日付）に掲載された。

　　Quadruple Switchable Catalysis: sp3 C–H Arylation, Aminomethylation, sp2 C–H Arylation, and Deiodination

　

2026/2/18　EUV露光装置の国内導入と高圧ガス保安法改正

最先端半導体の量産に欠かせない極端紫外線（EUV）露光装置の国内導入が相次いでいる。1台300億円以上の高価な装置だが、2025年は3台が設置された。

ラピダス  2024年12月にEUV装置の搬入を始め、25年3月までに設置
 2025年末までに2台目のEUV装置も導入
Micron 2025年5月　広島工場に導入

 露光装置は、基本的に投影システムである。描画されるパターンの設計図を刻んだもの（「マスク」or「レチクル」）を通して光が投影される。この設計図は、実際に半導体デバイス上に描画されるパターンよりも4倍大きいサイズになっている。

このパターン形状が光により符号化され、リソグラフィ装置の光学系によって縮小されて、シリコンウエハの感光性表面に投射される。パターンが一つ描画されると、装置内でウエハが少し動き、ウエハ上の次の場所に同様にパターンが描画されていく。

波長13.5nmの極端紫外線（EUV:Extreme Ultraviolet）を使うEUV露光装置は、7nm世代以降のロジック半導体や最先端メモリーの製造で不可欠な同装置で、オランダのASMLホールディングが唯一生産している。

米Intelや韓国Samsung Electronics、台湾積体電路製造（TSMC）といった大手半導体メーカーがEUV露光装置を導入して先端半導体デバイスを量産している。

EUV露光装置の累計出荷台数は、2025年中盤時点で300台ほどに達しているとされる。

2018年10月に中国の新興半導体メモリーメーカー、合肥長鑫（イノトロン）がASMLから最先端のEUV露光装置導入に乗り出した。安徽省の合肥市政府が出資する企業で中国政府の意向を反映した動きとみられた。

オランダ政府は、軍事用途の半導体製造に使用される恐れがあるとする米国の圧力を受け、2019年に中国の顧客に対する最新鋭のEUV装置の販売を制限した。

オランダ政府は2023年6月30日、追加の輸出管理規制を9月1日から施行すると発表した。国の外交方針および安全保障政策次第で輸出許可ライセンスを停止することが可能という文言が含まれている。

ASMLは、既に輸出制限の対象となっている極端紫外線（EUV）露光装置に加え、深紫外線（DUV）露光装置の出荷に関してもオランダ政府の輸出管理規制の対象となったと述べた。

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「極端紫外線（EUV）露光装置」の日本への導入には高圧ガス保安法の改正が必要である。

EUV露光装置はPPL（Plasma-Produced Laser）方式の光源を採用する。

真空内を時速320km前後で移動する100万分の30mの大きさのスズの小滴を射出、レーザーを2回照射、1回目で高温にし、2回目で小滴を破壊、50万度のプラズマを発生させる。

スズを破壊させるプロセスを1秒当たり5万回繰り返すことで、半導体製造に必要な量のEUVが得られる。強力な炭酸ガスレーザーが必要。

炭酸ガスレーザーの生み出すエネルギーの8割は熱で、この除去が必要である。　磁石でファンを浮上させ、熱を吸い出す。

日本では（日本のみ？）、この高圧状態のスズとその容器（タンク）が高圧ガス保安法の適用対象である。

高圧装置は、完成時の検査のほか、高圧ガス保安法に基づく年1回の保安検査が義務付けられている。

保安検査の受検には、装置を安全に停止・解体・再稼働する必要があるため、24時間365日稼働し続ける半導体製造装置を何日か停止させねばならず、超高額装置の稼働率の低下をきたすことになる。

広島県は2022年6月に、国際的な安全基準・規格を活用した簡素化を経済産業省に要望。Micron Technologyなどの主要メーカーもキーサプライヤーや政府に緩和を求めている。

2022年〜2023年にかけて、「高圧ガス保安法等の一部を改正する法律」が成立しており、2023年12月21日から施行された「認定高度保安実施者制度」がその主要な改正のひとつ。

この制度の趣旨・内容は、「自立的に高度な保安を確保できる事業者」について、保安検査等の手続きや検査の頻度などを一定緩和・合理化することを認めるというもの。

また、「認定高度保安実施者」の中でも更に要件が高い「特定認定高度保安実施者（A認定）」というランクもあり 、連続運転可能期間（停止しないでよい期間）や検査周期の延長など、より大きな緩和が可能。

ただ、この制度が成立したとか、施行されたということと、「EUV露光装置がこれにより年1回保安検査を停止なしで完全に免除される」 とは言えない。解釈や運営で法の規定を曲げることはあり得ない。

日本だけに適用されて対象企業に不利となるルールで、他国にこのルールがないことは本事業にとって必要なものでないルールであり、そのまま適用することは考えられない。


いよいよ、国営企業であるラピダスや米国のMicron両社が装置の利用を開始する。政府は明確なルールを出す必要がある。